מכירת נקודה 0.3 x 200 x 200 מ"מ צלחת טנטלום באיכות גבוהה
|
עוֹבִי |
עובי מותר חֲרִיגָה |
עובי מותר חֲרִיגָה |
רוֹחַב |
סטיית רוחב מותרת |
מֶשֶׁך |
סטייה באורך מותר |
|
0.025~0.07 |
±0.005 |
±0.006 |
70~150 |
±2.0 |
גדול או שווה ל 1000 |
- |
|
>0.07~0.09 |
±0.006 |
±0.008 |
70~150 |
±2.0 |
גדול או שווה ל 1000 |
- |
|
0.1~0.20 |
±0.015 |
±0.02 |
50~300 |
±2.0 |
100~2000 |
±3.0 |
|
>0.2~0.30 |
±0.02 |
±0.03 |
50~300 |
±2.0 |
100~2000 |
±3.0 |
|
>0.30~0.50 |
±0.03 |
±0.04 |
50~500 |
±2.0 |
100~2000 |
±3.0 |
|
>0.50~0.80 |
±0.04 |
±0.06 |
50~500 |
±2.0 |
50~1200 |
±3.0 |
|
>0.80~1.0 |
±0.06 |
±0.08 |
50~500 |
±2.0 |
50~1200 |
±3.0 |
|
>1.0~1.5 |
±0.08 |
±0.10 |
50~500 |
±3.0 |
50~1200 |
±4.0 |
|
>1.5~2.0 |
±0.12 |
±0.14 |
50~500 |
±3.0 |
50~1200 |
±4.0 |
|
>2.0~3.0 |
±0.16 |
±0.18 |
50~500 |
±5.0 |
50~1200 |
±5.0 |
|
>3.0~4.0 |
±0.18 |
±0.20 |
50~500 |
±5.0 |
50~1200 |
±5.0 |
|
>4.0~6.0 |
±0.12 |
±0.24 |
50~500 |
±5.0 |
50~1200 |
±5.0 |
|
>6.0~30.0 |
±0.24 |
±0.50 |
50~500 |
±5 |
50~1200 |
±5.0 |
מה מגדיל 99.95% –99.99% גיליון טנטלום טהור זה מזה?
Tantalum, מתכת עקשן עם נקודת התכה של 3,017 מעלות, כבר מוערכת בגלל התנגדותה לקורוזיה וכוחו. עם זאת, כאשר מטוהרים ל 99.95% –99.99% (המכונה לעתים קרובות "4n" לטוהר "5n", כאשר "n" מציין תשעה - תשע), הוא הופך לחומר עם הומוגניות אטומית מושלמת כמעט {}}. ברמת טוהר זו, זיהומי עקבות - כגון ברזל, ניקל, סיליקון או נחושת - מצטמצמים לרמות מתחת ל 0.01%, ומבטלים את השפעותיהם המשבשות על התכונות המובנות של המתכת.
רמת טוהר זו אינה מקרית. זה דורש תהליך זיקוק שלב רב -, כולל:
נמס קשת ואקום (VAM): התכה חוזרת ונשנית בסביבת ואקום כדי להפריד ולהסיר זיהומים נדיפים.
Electron - זיקוק Hearth Hearth Beam (EBCR): תהליך משני המשתמש בקורות אלקטרונים אנרגיה גבוה - כדי לאדות מזהמים שיוריים, להבטיח הרכב אחיד.
תחריט כימי ומלטש: פרסם - טיפולים מתגלגלים להסרת תחמוצות או מזהמים פני השטח, קריטיים ליישומים הדורשים ניקיון אופטי או אלקטרוני.
התוצאה היא גיליון טנטלום עם מבנה גבישי כל כך טהור שהוא מציג ליד - התנהגות מכנית, חשמלית וכימית אידיאלית.
