מטרות טונגסטן נמצאות בשימוש נרחב בתחומים רבים, בעיקר כולל ייצור מוליכים למחצה, התקני מקור ניוטרונים מתפוררים, תהליכי פוטוליטוגרפיה, טכנולוגיית השקעת סרט דק, התקני היתוך גרעיני וכו'.
יישום בייצור מוליכים למחצה
בייצור מוליכים למחצה, מטרות טונגסטן משמשות בעיקר בתהליכי פוטוליתוגרפיה וטכנולוגיית שקיעת סרט דק. הצפיפות הגבוהה, הקשיות הגבוהה והתגובתיות הכימית הנמוכה של מטרות טונגסטן מאפשרות להם לספק בקרת תחריט מדויקת במהלך תחריט פלזמה, להפחית אובדן חומרים מיותר ולהבטיח את העדינות והשלמות של דפוסי המעגל. בטכנולוגיית שקיעת סרט דק, מטרות טונגסטן נוצרות לסרטים צפופים באמצעות שקיעת אדים פיזית (PVD) ותצהיר אדים כימי (CVD). לסרטים אלה יש קשיות גבוהה ועמידות בפני שחיקה, המשפרים את החוזק המכני והעמידות של התקני מוליכים למחצה. יחד עם זאת, המוליכות הגבוהה והעכבה הנמוכה שלהם עוזרים לשפר את יעילות ההולכה הנוכחית ולהפחית את צריכת החשמל.
יישום במקורות נויטרונים מתפוררים
מטרות טונגסטן גם ממלאות תפקיד מפתח בהתקני מקור ניוטרונים מתפוררים. מקורות נויטרונים מתפוררים מייצרים נויטרונים על ידי הפצצת גרעיני אטום כבדים עם פרוטונים עתירי אנרגיה, המשמשים לחקר המיקרו-מבנה והתכונות הדינמיות של החומר. טונגסטן הפך לחומר המועדף עבור מכשירי היתוך גרעיני ומקורות ניוטרונים מתפוררים בשל נקודת ההיתוך הגבוהה שלו, מוליכות תרמית גבוהה וקצב ריזור נמוך. מקורות ניוטרונים מתפוררים יכולים לספק ספקטרום אנרגטי נויטרונים רחב יותר, ולהרחיב את היקף המחקר במדעי הנייטרונים, במיוחד במחקר מדעי החומרים. היישום של מטרות טונגסטן מאפשר ללמוד חומרים לאחסון מימן, חוקי תגובת סוללות ולפתח חומרים חדשים.